光刻新技能面世！这家企业叫板阿斯麦

  据日本《朝日新闻》10月19日报导，日本佳能公司历时10年开宣布的新技能产品——可用于半导体制作的一种光刻设备——现已正式开售。日本制作企业从前独占光刻机商场，但后来被荷兰的阿斯麦(ASML)碾压。上述新设备能否不坚定阿斯麦的霸主方位将备受重视。

  佳能公司18日在横滨市举行了技能展现会，展现了新的“纳米压印”光刻设备。这是一种在半导体晶圆上制作精细电路的设备。

  这一新技能运用了佳能公司拿手的喷墨打印机和照相机技能，就像打印机滴墨相同，将很少的树脂滴到半导体晶圆上。相似盖印章的原理，将刻有凹凸电路图画的掩模压印到晶圆上制成电路。据悉在这一过程中，晶圆和掩模的方位相差不到几纳米。

  现在占干流的光刻设备是选用的是通过强光照耀将电路蚀刻在晶圆上的方法。为了使强光变细，要运用到许多透镜和反射镜，还一定要通过屡次重复照耀。这种方法不只制作本钱高，并且耗电量大，对环境的负荷也是一个课题。

  “纳米压印”设备因为不运用强光，耗电量仅为光刻设备的十分之一，电路可一次就能压印制成，因而制作本钱也很低。这种设备自身也比其他公司高达几百亿日元的设备更廉价。

  半导体的电路线宽越细，功能越高。用于高功能智能手机和人工智能的顶级产品线纳米。“纳米压印”方法能做到线纳米的产品，乃至应战最先进的2纳米产品。

  光刻设备商场在20至30年前简直被佳能和尼康两家公司独占。可是，这以后它们在技能开发上落后于阿斯麦，现在该企业具有90%以上的商场占有率。

  “纳米压印”是佳能公司为对立阿斯麦，从10年前开端就进行技能开发的设备。佳能公司董事长兼社长御手洗富士夫表明，要“成为游戏规则改动者”，意欲扭转局面。